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国产22纳米光刻机治不了中国的"芯"病

发稿时间:2018-12-03 来源: 中国河南网

 

十几年前,国际上开始对表面等离子体(Surface plasma,SP)光刻法感兴趣。中科院光电所从2003年开始研究,是较早出成果的一个团队。所谓SP,光电所的科学家杨勇向笔者解释:拿一块金属片和非金属片亲密接触,界面上有一些乱蹦的电子;光投影在金属上,这些电子就有序地震荡,产生波长几十纳米的电磁波,可用来光刻。

但这种电磁波很弱,所以光刻胶得凑近了,才能刻出来。且加工精度与ASML的光刻机没法比。刻几十纳米级的芯片是没法用SP光刻机的,至少以现在的技术不能。

验收会上也有记者问:该光刻设备能不能刻芯片,打破国外垄断?光电所专家回答说,用于芯片需要攻克一系列技术难题,距离还很遥远。

总之,中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机不是一回事,说前者弯道超车,就好像说中国出了个竞走名将要超越博尔特。

各家媒体第一时间报出的信息,就我看到的还算中规中矩。但后来网媒添枝加叶,搞到离谱。有些传播者为吸引眼球、赚钱,最爱制造“自嗨文”和“吓尿体”。听到国产科技成就先往大里吹,驴吹成马,马吹成骆驼,好卖个骆驼价。

这种“科技报道”是满足虚荣心的伪新闻。行家听了眉头一紧,避之大吉。也难怪许多科学家怕上新闻。

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